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主要用途高真空鍍膜設備可采用電阻加熱式蒸發源、電子束加熱式蒸發源，感應加熱式蒸發源。可以蒸發金屬，金屬氧化物和非金屬氧化物，適用于電子工業、光學工業的導電膜、...

本鍍膜設備是在優質浮法玻璃上采用真空磁控濺射技術、孿生陰極、中頻濺射技術，并配以*的控制系統，鍍制SO2/ITO膜層，生產過程全部自動、連續進行

卷繞系統采用高精度直流或交流變頻調速、具有運行平穩、速度高，對原卷材不劃傷、不折皺，收卷端面整齊等特點.

設備采用*的觸摸屏和PLC集中控制,裝有電腦自動換檔真空計和三路流量控制器,一套逆變偏壓,邊裝式加熱管四支,電腦PID自動控溫,

整機采用計算機網絡控制技術，配有人機界面和數據打印輸出裝置，真空系統全自動控制

本廠生產的墻幕玻璃磁控濺射鍍膜機，采用平面磁控濺射靶，可以在大平板浮法玻璃上鍍制金屬單質膜、復合膜、LE輻射膜，也可在小彎的弧形玻璃上鍍膜。

多功能鍍膜機具有蒸發鍍膜、磁控濺射鍍膜、多弧離子鍍膜等功能（用戶可以選配等離子鍍保護膜）。

磁控濺射+蒸發鍍膜設備： 立式、臥式。是一種多功能、高效率的鍍膜設備

立式、臥式。可加工的產品包括：手機、DVD、MP3、PDA外殼、按鍵；化妝品外殼；工藝禮品、玩具、圣誕禮品；可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PC、PVC、...

真空室;不銹鋼結構[1100乘1000] 真空機組;K600A 自動控制;PLC全自動控制平面靶;2對圓柱靶;1只弧源;4個偏壓電源;脈沖20KW 直流磁控電源...

真空電弧離子鍍的原理是基于冷陰極自持真空弧光放電理論。在電弧源離子鍍中，以鍍膜材料作為靶極（陰極），借助引弧裝置，使靶表面產生弧光放電。

為了適應真空鍍膜技術迅速發展的需要,經過對鍍膜設備的多年的研究開發,現已形成對客戶的各種需求均能生產出所需工藝設備,如裝飾膜能鍍出仿金、黑色、銀白、玫瑰紅色、紅...

多弧離子鍍膜設備是一種高效、無公害、無污染的干式電鍍設備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優點。

本系統為塑料或金屬部件表面EMI薄膜沉積單機型設備,其利用等離子體對被鍍工件表面進行活化,采用磁控濺射方法沉積薄膜,免除涂漆前處理工藝,大幅降低工件加工成本,整...